打破日企壟斷只是時間問題？東進半導體宣布與三星成功研發EUV光刻膠
2021-12-31 07:45
據韓媒etnews報道，韓國東進半導體與三星電子合作，成功開發了超細半導體加工必不可少的材料——極紫外(EUV)光刻膠(PR)。EUV光刻膠是因其技術難度高而完全依賴國外的產品，此次韓國通過國內企業合作實現了國產化，意味著日企壟斷的打破。
東進半導體華城工廠鳥瞰圖，來源：etnews
12月19日，東進半導體宣布于近期通過了三星電子的EUV光刻膠可靠性測試，發布此消息后，截至12月21日上午11時45分，東進半導體股價較前一交易日上漲12.8%。
一位熟悉此事的業內人士表示，“東進半導體在其位于京畿道華城的工廠開發了 EUV光刻膠，并在三星電子的華城EUV生產線上對其進行了測試，并獲得了最終的可靠性認證。”
三星電子，來源：etnews
光刻膠是半導體曝光工藝中的關鍵材料。它被施加在晶片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發生化學反應并改變物理特性。通過用顯影劑沖洗掉來繪制微電路，只留下必要的部分。
在韓國，用于KrF和ArF工藝的光刻膠已大量生產，但沒有用于可以繪制更精細電路的EUV光刻膠，大部分需要依賴日本進口。此外在2019年，日本與韓國爆發爭議之后曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發，東進半導體也是其中之一。
東進半導體利用自有的基礎設施，如現有的ArF曝光機和比利時半導體研究所I MEC EUV設備，開始進行EUV光刻膠國產化研發。
今年早些時候，其加強了EUV光刻膠專家并加速了技術開發。此外，三星電子積極支持EUV測試環境，以達到可以在現場使用的質量水平。
目前尚不清楚三星電子是否會立即將東進半導體EUV光刻膠投入半導體生產線。正常情況下，如果質量合格就會投入量產線。因此，有人預測最早可能在明年上半年供應。三星電子和東進半導體目前都拒絕就本條新聞表態。三星電子的一位官員表示：“我們無法與合作公司確認測試是否通過。”
就該消息而言，三星與東進半導體研發的EUV光刻膠產品只是成功通過了測試，距離量產時間還不確定，但這一消息也表明三星已經在EUV光刻膠方面取得成功，量產將只是時間問題。
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